半导体工业纯水制取用的是反渗透工艺还是去离子

半导体工业纯水制取用的是反渗透工艺还是去离子

文章作者: 宏洁水务

 　　众所周知，电子半导体工业对于纯水的要求是极高的，水质需达到一定的标准才可以使用，而随着市场上的纯水设备型号越来越多，加工车间即使在确定了哪种型号以外，主要还是以水的处理工艺为主，不同的水处理工艺处理之后的纯水水质是不一样的。

　　目前市场上常见的水处理工艺有：反渗透技术、双极反渗透、去离子水技术、edi超纯水等，半导体工业用的纯水主要有反渗透以及反渗透工艺，那这两个水处理工艺哪一种更适合。

　　反渗透水处理工艺可以去除水中96~99%左右的盐物质，通过反渗透膜来截留水中含有的有机物、细菌、离子、污染物等来达到水净化的目的。

　　去离子水技术是通过交换树脂去除水中的阴离子和阳离子，但是水中仍然会存在部分的可溶性的有机物，因此这是一种可用于对水质要求不是很高的工业制水。

       宏洁水务对半导体工业纯水工艺采用的是反渗透水处理工艺和去离子技术相结合的方式，其纯水水质可达到18.2MΩ.CM。

　　水处理工艺的选择除了跟用水的水质有关以外还跟原水的水质有关，具体水处理工艺流程直接到宏洁水务进行方案查询。